|
 |
|
¡ã »ï¼ºÁß°ø¾÷ Àü°æ |
»ï¼ºÁß°ø¾÷Àº »ï¼ºÀüÀÚ ÆòÅùݵµÃ¼ °Ç¼³ °ø»ç ÀϺÎ(P3L Ph2 FABµ¿ ¸¶°¨°ø»ç)¸¦ 1,901¾ï¿ø¿¡ ¼öÁÖÇß´Ù°í 19ÀÏ °ø½ÃÇß´Ù.
À̹ø °è¾àÀº Áö³ 1¿ù 14ÀÏ ÃÖÃÊ Ã¼°áÇßÀ¸¸ç º¯°æ °è¾àÀ» ÅëÇØ °è¾à ±Ý¾×ÀÌ °ø½Ã ±âÁرݾ×À» ÃʰúÇØ °ø½ÃÇß´Ù.
ÆòÅà ¹ÝµµÃ¼ °øÀåÀº »ï¼ºÀüÀÚ°¡ 393¸¸m2(¾à 120¸¸Æò) ºÎÁö¿¡ 2030³â±îÁö ´Ü°èº°·Î ¹ÝµµÃ¼ »ý»ê¶óÀÎ 6°³µ¿(P1L~P6L)°ú ºÎ¼Óµ¿À» ±¸ÃàÇÏ´Â ÃÊ´ëÇü ÇÁ·ÎÁ§Æ®´Ù.
»ï¼ºÁß°ø¾÷Àº ¼±¹Ú ¹× ÇØ¾çÇ÷£Æ® °ÇÁ¶·Î ÃàÀûµÈ ÀÚµ¿¿ëÁ¢, ¸ðµâ°ø¹ý(´ëÇüÈ) ¿ª·®À» Ȱ¿ëÇØ 2020³âºÎÅÍ EUV °øÀå ¹× P2L, P3LÀÇ ÆÄÀÏ·µ °ø»ç¿¡ Âü¿©ÇØ ¼º°øÀûÀ¸·Î ¼öÇàÇØ ¿Ô´Ù.
EUV(Extreme Ultraviolet)´Â ±ØÀڿܼ±À» ÀÌ¿ëÇØ ¹ÝµµÃ¼ ȸ·Î ÆÐÅÏÀ» ±×¸®´Â °øÁ¤À̰í, FAB(Fabrication)´Â ¿øÀÚÀçÀÎ Wafer °¡°øÀÌ ÁøÇàµÇ´Â ¶óÀÎÀÌ´Ù.
»ï¼ºÁß°ø¾÷Àº Á¶¼±ÇØ¾ç ¿Ü ºÎ¹®À¸·ÎÀÇ »ç¾÷ ´Ù°¢È ±â¹ÝÀ» ±¸ÃàÇϱâ À§ÇØ ¹ÝµµÃ¼ °Ç¼³°ø»ç ¹°·®À» Áö¼Ó ¼öÁÖÇØ ³ª°¥ °èȹÀÌ´Ù. |